【出版機(jī)構(gòu)】: | 中研智業(yè)研究院 | |
【報(bào)告名稱】: | 全球及中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀與投資前景策略分析報(bào)告2025-2030年 | |
【關(guān) 鍵 字】: | 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)報(bào)告 | |
【出版日期】: | 2024年12月 | |
【交付方式】: | EMIL電子版或特快專遞 | |
【報(bào)告價(jià)格】: | 【紙質(zhì)版】: 6500元 【電子版】: 6800元 【紙質(zhì)+電子】: 7000元 | |
【聯(lián)系電話】: | 010-57126768 15311209600 |
——綜述篇——
第1章:半導(dǎo)體濺射靶材綜述/產(chǎn)業(yè)畫像/數(shù)據(jù)說明
1.1 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)綜述
1.1.1 半導(dǎo)體濺射靶材重要性
1.1.2 半導(dǎo)體濺射靶材的類型
1.1.3 半導(dǎo)體濺射靶材所處行業(yè)
1.1.4 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)監(jiān)管
1.1.5 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
1.2 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)畫像
1.2.1 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)梳理
1.2.2 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)全景圖譜
1.2.3 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈區(qū)域熱力圖
1.3 本報(bào)告數(shù)據(jù)來源及統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)說明
1.3.1 本報(bào)告研究范圍界定
1.3.2 本報(bào)告權(quán)威數(shù)據(jù)來源
1.3.3 研究方法及統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)
——現(xiàn)狀篇——
第2章:全球半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
2.1 全球半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
2.2 全球半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
2.2.1 全球半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)及其產(chǎn)品
2.2.2 全球半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)概況
2.2.3 全球半導(dǎo)體濺射靶材主要下游應(yīng)用
2.3 全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
2.3.1 全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
2.3.2 全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)集中度
2.3.3 全球半導(dǎo)體濺射靶材并購交易
2.4 全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模體量
2.5 全球半導(dǎo)體濺射靶材區(qū)域發(fā)展格局
2.5.1 全球半導(dǎo)體濺射靶材區(qū)域格局
2.5.2 全球半導(dǎo)體濺射靶材貿(mào)易關(guān)系
2.5.3 全球半導(dǎo)體濺射靶材貿(mào)易流向
2.6 國(guó)外半導(dǎo)體濺射靶材發(fā)展經(jīng)驗(yàn)借鑒
2.6.1 國(guó)外半導(dǎo)體濺射靶材發(fā)展經(jīng)驗(yàn)借鑒
2.6.2 重點(diǎn)區(qū)域市場(chǎng):日本
2.6.3 重點(diǎn)區(qū)域市場(chǎng):美國(guó)
2.6.4 重點(diǎn)區(qū)域市場(chǎng):歐洲
2.7 全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)
2.8 全球半導(dǎo)體濺射靶材發(fā)展趨勢(shì)洞悉
第3章:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
3.1 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
3.2 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)主體分析
3.2.1 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材參與者類型
3.2.2 半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)數(shù)量/名單
3.2.3 半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)入場(chǎng)方式
3.2.4 半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)入場(chǎng)進(jìn)程
3.3 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材國(guó)產(chǎn)替代空間
3.3.1 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程/國(guó)產(chǎn)化率
3.3.2 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材進(jìn)口貿(mào)易概況
3.3.3 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材國(guó)產(chǎn)替代空間
3.4 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)供給/生產(chǎn)
3.4.1 半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品列表
3.4.2 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)能投資/建設(shè)
3.4.3 半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)情況/產(chǎn)量
3.5 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材客戶驗(yàn)證情況
3.6 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)需求/銷售
3.6.1 半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)銷售模式
3.6.2 半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)需求現(xiàn)狀
3.6.3 半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)供求關(guān)系
3.6.4 半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)價(jià)格水平
3.7 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)獲利水平
3.8 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模體量
3.9 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)
3.9.1 半導(dǎo)體濺射靶材同業(yè)競(jìng)爭(zhēng)程度
3.9.2 半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
3.9.3 半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)集中度
3.10 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材投融資及熱門賽道
3.10.1 半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)融資方式
3.10.2 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)兼并重組
3.10.3 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)融資動(dòng)態(tài)
3.11 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展痛點(diǎn)問題
第4章:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)進(jìn)展及供應(yīng)鏈
4.1 半導(dǎo)體濺射靶材競(jìng)爭(zhēng)壁壘
4.1.1 半導(dǎo)體濺射靶材核心競(jìng)爭(zhēng)力/護(hù)城河
4.1.2 半導(dǎo)體濺射靶材進(jìn)入壁壘/競(jìng)爭(zhēng)壁壘
1、技術(shù)壁壘
2、認(rèn)證壁壘(客戶認(rèn)證)
4.1.3 半導(dǎo)體濺射靶材潛在進(jìn)入者的威脅
4.2 半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)研發(fā)
4.2.1 半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)研發(fā)現(xiàn)狀
4.2.2 半導(dǎo)體濺射靶材專利申請(qǐng)狀況
4.2.3 半導(dǎo)體濺射靶材科研創(chuàng)新動(dòng)態(tài)
4.2.4 半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)研發(fā)方向/未來研究重點(diǎn)
4.3 半導(dǎo)體濺射靶材制造
4.3.1 半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)工藝流程
4.3.2 半導(dǎo)體濺射靶材關(guān)鍵核心技術(shù)
4.3.3 半導(dǎo)體濺射靶材核心技術(shù)——金屬提純
1、化學(xué)提純
2、物理提純
4.3.4 半導(dǎo)體濺射靶材制造——粉末冶金法
1、熱等靜壓法
2、熱壓法
3、冷壓-燒結(jié)法
4.3.5 半導(dǎo)體濺射靶材制造——熔煉法
1、真空感應(yīng)熔煉
2、真空電弧熔煉
3、真空電子束熔煉
4.3.6 半導(dǎo)體濺射靶材制造——加工工藝
1、塑性變形
2、熱處理
3、控制晶粒取向
4.4 半導(dǎo)體濺射鍍膜技術(shù)
4.4.1 半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)原理
4.4.2 磁控濺射鍍膜技術(shù)概述
4.4.3 磁控濺射鍍膜關(guān)鍵技術(shù)
1、靶材的選擇與制備
2、磁場(chǎng)設(shè)計(jì)
3、濺射氣氛的控制
4、底物的處理和溫度控制
4.5 半導(dǎo)體濺射靶材成本結(jié)構(gòu)
4.5.1 半導(dǎo)體濺射靶材成本結(jié)構(gòu)分析
4.5.2 半導(dǎo)體濺射靶材成本控制策略
4.6 半導(dǎo)體濺射靶材核心原料——高純金屬材料
4.6.1 高純金屬材料性能用途
4.6.2 高純金屬材料市場(chǎng)概況
4.6.3 高純金屬材料供應(yīng)商格局
4.6.4 高純金屬材料國(guó)產(chǎn)化現(xiàn)狀
4.7 半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)設(shè)備
4.7.1 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)線設(shè)備組成/選型
4.7.2 半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)設(shè)備市場(chǎng)概況
4.7.4 半導(dǎo)體濺射靶材關(guān)鍵設(shè)備——濺射機(jī)臺(tái)
4.8 半導(dǎo)體濺射靶材供應(yīng)鏈管理及面臨挑戰(zhàn)
第5章:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)細(xì)分市場(chǎng)分析
5.1 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)細(xì)分市場(chǎng)發(fā)展概況
5.1.1 半導(dǎo)體濺射靶材的替代品威脅
5.1.2 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品綜合對(duì)比
5.1.3 半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)概況
5.1.4 半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)結(jié)構(gòu)
5.2 半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng):金屬靶材
5.2.1 金屬靶材概述
5.2.2 金屬靶材市場(chǎng)概況
5.2.3 金屬靶材競(jìng)爭(zhēng)格局
5.2.4 主要金屬靶材概況
1、高純鋁靶材
2、高純銅靶材
3、高純鈦靶材
4、高純鉭靶材
5、其他
5.2.5 金屬靶材發(fā)展趨勢(shì)
5.3 半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng):合金靶材
5.3.1 合金靶材概述
5.3.2 合金靶材市場(chǎng)概況
5.3.3 合金靶材競(jìng)爭(zhēng)格局
5.3.4 主要合金靶材概況
1、鎳鉻合金靶材
2、鎳鈷合金靶材
3、鎳鉑合金靶材
4、鎢鈦合金靶材
5、鐵鈷合金靶材
5.3.5 合金靶材發(fā)展趨勢(shì)
5.4 半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng):陶瓷靶材
5.4.1 陶瓷靶材概述
5.4.2 陶瓷靶材市場(chǎng)概況
5.4.3 陶瓷靶材競(jìng)爭(zhēng)格局
5.4.4 主要陶瓷靶材概況
1、ITO靶材
2、二氧化硅靶材
3、氟化硅靶材
4、氧化鋅靶材
5、氧化鈦靶材
5.4.5 陶瓷靶材發(fā)展趨勢(shì)
5.5 半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)戰(zhàn)略地位分析
第6章:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)應(yīng)用需求分析
6.1 濺射靶材應(yīng)用場(chǎng)景&領(lǐng)域分布
6.1.1 濺射鍍膜中間產(chǎn)品概況
1、濺射鍍膜企業(yè)多但質(zhì)量
2、濺射機(jī)臺(tái)長(zhǎng)期被美日企業(yè)壟斷
6.1.2 濺射靶材主要應(yīng)用場(chǎng)景
6.1.3 濺射靶材下游應(yīng)用結(jié)構(gòu)
6.2 濺射靶材細(xì)分應(yīng)用:半導(dǎo)體芯片靶材
6.2.1 半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
6.2.2 中國(guó)硅晶圓現(xiàn)有/規(guī)劃產(chǎn)能
1、6英寸及以下
2、8英寸半導(dǎo)體硅片產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)
3、12英寸半導(dǎo)體硅片產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)
6.2.3 中國(guó)晶圓廠數(shù)量及擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃
1、新增晶圓廠數(shù)量
2、晶圓廠投資擴(kuò)產(chǎn)
3、晶圓代工的現(xiàn)狀
6.2.4 中國(guó)集成電路歷年產(chǎn)量變化
6.2.5 半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
6.2.6 半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
6.3 濺射靶材細(xì)分應(yīng)用:平板顯示靶材
6.3.1 平板顯示領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
6.3.2 平板顯示領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
6.3.3 平板顯示領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
6.4 濺射靶材細(xì)分應(yīng)用:太陽能電池靶材
6.4.1 太陽能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
6.4.2 太陽能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
6.4.3 太陽能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
6.5 濺射靶材細(xì)分應(yīng)用:信息存儲(chǔ)靶材
6.5.1 信息存儲(chǔ)領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
6.5.2 信息存儲(chǔ)領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
6.5.3 信息存儲(chǔ)領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
6.6 濺射靶材細(xì)分應(yīng)用:其他
6.6.1 工具改性領(lǐng)域
6.6.2 電子器件領(lǐng)域
6.6.3 玻璃鍍膜領(lǐng)域
6.7 濺射靶材細(xì)分應(yīng)用市場(chǎng)戰(zhàn)略地位分析
第7章:全球及中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)案例解析
7.1 全球及中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)梳理對(duì)比
7.2 全球半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)案例分析(不分先后,可指定)
7.2.1 JX金屬(JX Advanced Metals)
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
4、半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
7.2.2 霍尼韋爾(Honeywell )
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
4、半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
7.2.3 東曹(Tosoh Corporation)
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
4、半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
7.2.4 普萊克斯(Praxair)
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
4、半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
7.3 中國(guó)高純金屬材料企業(yè)案例分析(不分先后,可指定)
7.3.1 新疆眾和股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術(shù)
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應(yīng)用領(lǐng)域
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.2 寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術(shù)
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應(yīng)用領(lǐng)域
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.3 金川集團(tuán)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術(shù)
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應(yīng)用領(lǐng)域
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.4 寧波創(chuàng)潤(rùn)新材料有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術(shù)
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應(yīng)用領(lǐng)域
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.5 廈門鎢業(yè)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術(shù)
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應(yīng)用領(lǐng)域
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.4 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)案例分析(不分先后,可指定)
7.3.1 寧波江豐電子材料股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導(dǎo)體濺射靶材專利技術(shù)
5、半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導(dǎo)體濺射靶材客戶驗(yàn)證
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.2 有研億金新材料有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導(dǎo)體濺射靶材專利技術(shù)
5、半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導(dǎo)體濺射靶材客戶驗(yàn)證
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.3 隆華科技集團(tuán)(洛陽)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導(dǎo)體濺射靶材專利技術(shù)
5、半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導(dǎo)體濺射靶材客戶驗(yàn)證
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.4 福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導(dǎo)體濺射靶材專利技術(shù)
5、半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導(dǎo)體濺射靶材客戶驗(yàn)證
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
7.3.5 廣西晶聯(lián)光電材料有限責(zé)任公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
2、企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導(dǎo)體濺射靶材專利技術(shù)
5、半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導(dǎo)體濺射靶材客戶驗(yàn)證
7、企業(yè)業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
——展望篇——
第8章:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)政策環(huán)境及發(fā)展?jié)摿?BR>8.1 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)政策匯總解讀
8.1.1 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)政策匯總
8.1.2 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展規(guī)劃
8.1.3 中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材重點(diǎn)政策解讀
8.2 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)PEST分析圖
8.3 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)SWOT分析圖
8.4 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu(píng)估
8.5 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)未來關(guān)鍵增長(zhǎng)點(diǎn)
8.6 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展前景預(yù)測(cè)
8.7 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)洞悉
8.7.1 整體發(fā)展趨勢(shì)
8.7.2 監(jiān)管規(guī)范趨勢(shì)
8.7.3 技術(shù)創(chuàng)新趨勢(shì)
8.7.4 細(xì)分市場(chǎng)趨勢(shì)
8.7.5 市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)趨勢(shì)
8.7.6 市場(chǎng)供需趨勢(shì)
第9章:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資機(jī)會(huì)及策略建議
9.1 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警
9.1.1 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警
9.1.2 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)應(yīng)對(duì)
9.2 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資機(jī)會(huì)分析
9.2.1 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈薄弱環(huán)節(jié)投資機(jī)會(huì)
9.2.2 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域投資機(jī)會(huì)
9.2.3 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)區(qū)域市場(chǎng)投資機(jī)會(huì)
9.2.4 半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)空白點(diǎn)投資機(jī)會(huì)
9.3 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資價(jià)值評(píng)估
9.4 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)投資策略建議
9.5 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)可持續(xù)發(fā)展建議
圖表目錄
圖表1:半導(dǎo)體濺射靶材重要性
圖表2:半導(dǎo)體濺射靶材的類型
圖表3:半導(dǎo)體濺射靶材所處行業(yè)
圖表4:半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)監(jiān)管
圖表5:半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
圖表6:半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)圖
圖表7:半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)全景圖譜
圖表8:半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈區(qū)域熱力圖
圖表9:報(bào)告研究范圍界定
圖表10:報(bào)告權(quán)威數(shù)據(jù)來源
圖表11:報(bào)告研究統(tǒng)計(jì)方法
圖表12:全球半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
圖表13:全球半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)及其產(chǎn)品
圖表14:全球半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)概況
圖表15:全球半導(dǎo)體濺射靶材主要下游應(yīng)用
圖表16:全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
圖表17:全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)集中度
圖表18:全球半導(dǎo)體濺射靶材并購交易態(tài)勢(shì)
圖表19:全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模體量
圖表20:全球半導(dǎo)體濺射靶材區(qū)域格局
圖表21:全球半導(dǎo)體濺射靶材貿(mào)易關(guān)系
圖表22:全球半導(dǎo)體濺射靶材貿(mào)易流向
圖表23:國(guó)外半導(dǎo)體濺射靶材發(fā)展經(jīng)驗(yàn)借鑒
圖表24:日本半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況
圖表25:美國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況
圖表26:歐洲半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況
圖表27:全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)(未來五年)
圖表28:全球半導(dǎo)體濺射靶材發(fā)展趨勢(shì)洞悉
圖表29:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
圖表30:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材研發(fā)/生產(chǎn)企業(yè)
圖表31:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)入場(chǎng)方式
圖表32:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)入場(chǎng)進(jìn)程
圖表33:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材進(jìn)口貿(mào)易概況
圖表34:半導(dǎo)體濺射靶材國(guó)產(chǎn)替代空間
圖表35:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品列表
圖表36:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)能投資/建設(shè)
圖表37:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)情況/產(chǎn)量
圖表38:半導(dǎo)體濺射靶材客戶認(rèn)證情況
圖表39:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)銷售模式
圖表40:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)需求現(xiàn)狀
圖表41:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)供求關(guān)系
圖表42:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)價(jià)格走勢(shì)
圖表43:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模體量
圖表44:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材同業(yè)競(jìng)爭(zhēng)程度
圖表45:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
圖表46:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)集中度
圖表47:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)融資方式
圖表48:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)兼并重組態(tài)勢(shì)
圖表49:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材熱門融資賽道
圖表50:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)發(fā)展痛點(diǎn)問題
圖表51:半導(dǎo)體濺射靶材核心競(jìng)爭(zhēng)力/護(hù)城河
圖表52:半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)進(jìn)入/競(jìng)爭(zhēng)壁壘
圖表53:半導(dǎo)體濺射靶材潛在進(jìn)入者的威脅
圖表54:半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)研發(fā)現(xiàn)狀
圖表55:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材專利申請(qǐng)狀況
圖表56:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材科研創(chuàng)新動(dòng)態(tài)
圖表57:半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)研發(fā)方向/未來研究重點(diǎn)
圖表58:半導(dǎo)體濺射靶材工藝流程圖解
圖表59:半導(dǎo)體濺射靶材關(guān)鍵核心技術(shù)
圖表60:半導(dǎo)體濺射靶材制造加工工藝
圖表61:半導(dǎo)體濺射靶材技術(shù)原理分析
圖表62:半導(dǎo)體濺射靶材成本結(jié)構(gòu)分析
圖表63:半導(dǎo)體濺射靶材成本控制策略
圖表64:半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)線設(shè)備組成/選型
圖表65:半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)設(shè)備市場(chǎng)概況
圖表66:半導(dǎo)體濺射靶材生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)格局
圖表67:半導(dǎo)體濺射靶材供應(yīng)鏈管理及面臨挑戰(zhàn)
圖表68:半導(dǎo)體濺射靶材的替代品威脅分析
圖表69:半導(dǎo)體濺射靶材產(chǎn)品綜合對(duì)比
圖表70:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)概況
圖表71:中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)結(jié)構(gòu)(單位:%)
圖表72:金屬靶材概述
圖表73:金屬靶材市場(chǎng)概況
圖表74:金屬靶材競(jìng)爭(zhēng)格局
圖表75:金屬靶材發(fā)展趨勢(shì)
圖表76:半導(dǎo)體濺射靶材細(xì)分市場(chǎng)戰(zhàn)略地位分析
圖表77:濺射靶材主要應(yīng)用場(chǎng)景
圖表78:濺射靶材下游應(yīng)用結(jié)構(gòu)(單位:%)
圖表79:半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
圖表80:2011-2024年中國(guó)集成電路產(chǎn)量及增速(單位:億塊,%)
圖表81:半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
圖表82:半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
圖表83:平板顯示領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
圖表84:平板顯示領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
圖表85:平板顯示領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
圖表86:太陽能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
圖表87:太陽能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
圖表88:太陽能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
圖表89:信息存儲(chǔ)領(lǐng)域?yàn)R射靶材概述
圖表90:信息存儲(chǔ)領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀
圖表91:信息存儲(chǔ)領(lǐng)域?yàn)R射靶材需求潛力
圖表92:濺射靶材細(xì)分應(yīng)用波士頓矩陣分析
圖表93:全球及中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)案例解析
圖表94:全球及中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)梳理對(duì)比
圖表95:全球半導(dǎo)體濺射靶材企業(yè)案例分析說明
圖表96:JX金屬(JX Advanced Metals)基本情況
圖表97:JX金屬(JX Advanced Metals)經(jīng)營(yíng)情況
圖表98:JX金屬(JX Advanced Metals)半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
圖表99:JX金屬(JX Advanced Metals)半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
圖表100:霍尼韋爾(Honeywell )基本情況
圖表101:霍尼韋爾(Honeywell )經(jīng)營(yíng)情況
圖表102:霍尼韋爾(Honeywell )半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
圖表103:霍尼韋爾(Honeywell )半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
圖表104:東曹(Tosoh Corporation)基本情況
圖表105:東曹(Tosoh Corporation)經(jīng)營(yíng)情況
圖表106:東曹(Tosoh Corporation)半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
圖表107:東曹(Tosoh Corporation)半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
圖表108:普萊克斯(Praxair)基本情況
圖表109:普萊克斯(Praxair)經(jīng)營(yíng)情況
圖表110:普萊克斯(Praxair)半導(dǎo)體濺射靶材業(yè)務(wù)布局
圖表111:普萊克斯(Praxair)半導(dǎo)體濺射靶材在華布局
圖表112:新疆眾和股份有限公司發(fā)展歷程
圖表113:新疆眾和股份有限公司基本信息表
圖表114:新疆眾和股份有限公司經(jīng)營(yíng)范圍及主營(yíng)業(yè)務(wù)
圖表115:新疆眾和股份有限公司經(jīng)營(yíng)情況
圖表116:新疆眾和股份有限公司經(jīng)營(yíng)資質(zhì)和能力資質(zhì)
圖表117:新疆眾和股份有限公司XX專利技術(shù)
圖表118:新疆眾和股份有限公司XX產(chǎn)品布局
圖表119:新疆眾和股份有限公司XX應(yīng)用領(lǐng)域
圖表120:新疆眾和股份有限公司業(yè)務(wù)布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢(shì)
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